防振・隔振技術（Vibration Isolation Technology）是將半導體製造設備與地板振動、設備內部振動及聲波振動隔離、阻斷，以確保要求奈米以下精度之製造與量測製程穩定性的技術。在EUV曝光機（晶圓載台定位精度<1nm）、CD-SEM（電子束穩定性）、電子束直寫設備、高解析度量測設備（光化檢測機等）中，為防止地板振動造成性能劣化，必須在設備層級與廠房層級採取防振對策。
防振技術的主要做法分為被動防振與主動防振2種。被動防振以空氣彈簧、黏彈性橡膠、金屬彈簧等機械元件吸收振動，成本低且可靠度高，但難以阻斷低頻振動（1～10Hz）。主動防振則以感測器偵測振動，再由致動器（音圈馬達、壓電元件）即時施加反相位的力來抵消振動。EUV設備與CD-SEM已將兩者結合的混合式防振列為標準配置。
艾司摩爾的EUV曝光機TWINSCAN NXE系列搭載了全球最高水準的防振技術。晶圓載台與光罩載台分別裝在各自獨立的主動隔振台上，並透過讓載台加速時的反作用力相互抵消的「作用力・反作用力系統」，實現曝光中晶圓定位精度（3σ）<0.3nm。EXE:5000（High-NA EUV）對精度的要求更高，防振系統的技術創新已成為提升設備性能的重要因素。
廠房層級的防振設計也是晶圓廠建設的重要技術。先進晶圓廠的廠房採用隔震結構（積層橡膠隔震），無塵室樓板使用低振動混凝土，將設備安裝面的振動速度控制在VC-E（振動準則E：<3μm/s）以下。NHK Spring（日本發條）、TMC（Technical Manufacturing Corporation，美國）、Herrenknecht（歐洲）、日立造船（隔震）是主要的防振技術供應商。台積電熊本廠、三星Taylor、英特爾Arizona等新廠的防振規格高低，已成為左右投資規模的因素。
防振技術市場受先進曝光設備與量測設備高精度化的需求帶動。據稱艾司摩爾每1台EUV設備搭載的防振元件價格達數億日圓規模，EUV設備增產直接帶動防振零組件需求。NHK Spring作為艾司摩爾防振元件的主要供應商，受惠於艾司摩爾營收擴大。此外，半導體以外的液晶面板曝光設備（尼康、佳能）、量子電腦、精密量測儀器的防振需求也在擴大。