光化光罩檢測（Actinic Mask Inspection）是使用與實際曝光波長相同的EUV（極紫外光）光（13.5nm），檢測EUV微影所用EUV光罩的技術。「光化（actinic）」是指曝光所使用波段的光。使用傳統深紫外光（DUV：193nm）的檢測，無法準確預測EUV光罩上的缺陷在EUV曝光時是否會轉印到晶圓上，因此需要以相同波長進行檢測。
EUV光罩採用反射式結構，在多層反射膜（Mo/Si交替堆疊膜）上形成吸收層圖形。這種多層膜內部的相位缺陷（Phase Defect）難以用DUV光檢出，但在EUV光下會產生相位差，有轉印的風險。光化檢測對於這類EUV特有缺陷（相位缺陷、振幅缺陷）的檢出精度大幅提升。
光化檢測設備的開發由艾司摩爾扮演核心角色，已將使用EUV光源的光罩檢測系統（AIMS EUV）導入量產線。此外，蔡司的EUV顯微鏡技術也有所應用。兼顧提升檢測產能（目前每1片需數小時～數十小時）與檢出靈敏度，是商用化的課題。
作為EUV光罩的缺陷管理流程，已建立一系列鏈條：製造後的空白光罩檢測（Mask Blank Inspection）、圖形形成後的檢測（Patterned Mask Inspection），以及曝光後的晶圓上缺陷評估（After Etch Inspection）。尤其空白光罩的相位缺陷多半無法修補，因此在空白光罩階段的高精度篩選直接關係到良率。
轉向High-NA EUV（NA=0.55）時，必須因應更小的光罩視野尺寸與新的變形（anamorphic）光學系統，光化檢測設備也需要更新為支援High-NA EUV的版本。JSR與東京應化（TOK）供應EUV光罩用材料（光罩保護膜、光阻），透過與光化檢測的配合，支撐光罩品質管理體制。