氧化釔熔射塗層是以熔射等手法將氧化釔（Y₂O₃）成膜於腔體內部零件表面，以抑制電漿侵蝕（erosion）與微粒產生的表面處理技術。蝕刻設備的內襯、噴淋頭、ESC表面、環件等，幾乎所有暴露於氟系、氯系電漿的零件都會採用。
選用Y₂O₃的理由在於，它與氟自由基反應生成的YF₃穩定且不揮發，表面可作為保護膜，使侵蝕不易進行。相較於氧化鋁（Al₂O₃）生成的AlF₃，YF₃穩定性更高，被削除的速度小了約一個數量級，因此在延長零件壽命的同時，也減少了被削下的粒子落在晶圓上所造成的微粒缺陷。
成膜手法以大氣電漿熔射（APS）為量產主流；需要更緻密、低微粒膜的用途，則使用懸浮液電漿熔射（SPS）、氣膠沉積（AD法），或以PVD／ALD形成的緻密膜。熔射膜本質上含有微小氣孔與裂紋，因此氣孔率與界面附著力是決定壽命與微粒表現的指標。
近年不只使用單純的氧化釔，也開始採用氟化釔（YF₃）、氟氧化釔（YOF）等含氟系塗層。目的是使組成接近製程中生成的氟化物層，以抑制體積變化造成的裂紋與粒子脫落。最適塗層因製程條件（氣體種類、功率、溫度）而異，因此由設備廠商與表面處理業者共同開發。
日本企業在此領域占有重要地位，以日本國內最大熔射業者TOCALO為首，多家表面處理業者負責設備零件的新品塗層與使用過零件的再生。對晶圓廠而言，這是能同時改變耗材成本、PM週期與微粒良率的槓桿，投資效益高。