研磨墊修整器是什麼

研磨墊修整器（研磨墊再生裝置）是持續再生（修整）CMP研磨墊表面，以防止釉化（堵塞）、維持穩定研磨速率的設備・零組件。將電著鑽石磨粒的圓盤在研磨墊上滑動，恢復可保持研磨液的粗糙突起（asperity，微小突起）。與研磨墊同為CMP的「耗材」，需定期更換，直接關係到研磨液保持量・研磨均勻性・產能維持。

重點整理

研磨墊修整＝以鑽石圓盤再生研磨墊的粗糙突起（asperity）

以臨場（與研磨同時）修整，連續穩定維持MRR（研磨速率）

以非臨場（研磨後）修整，深度再生・均勻化研磨墊表面

鑽石圓盤密度・粒度・轉速決定研磨墊壽命與研磨輪廓

3M・Entegris・東京精密・中國砂輪（Kinik）為主要修整碟供應商

常見問題

什麼是研磨墊修整？

CMP使用的研磨墊由聚氨酯等多孔材料製成，持續研磨後，表面的微小突起（asperity）會被壓平，無法保持研磨液（釉化）。研磨墊修整是以電著鑽石磨粒的圓盤重新切削研磨墊表面，恢復粗糙突起以維持研磨速率的工序。

臨場與非臨場修整有什麼不同？

臨場（In-situ）修整是在研磨中同時讓修整碟在研磨墊上旋轉，即時再生研磨墊的方式。非臨場（Ex-situ）修整是在研磨停止的狀態下再生研磨墊的方式。在先進邏輯的Cu CMP中，臨場修整為標準，可將研磨速率變動抑制在數%以內。

研磨墊修整碟多久更換一次？

修整碟的壽命依廠商・使用條件而定，一般每處理數千至數萬片晶圓更換一次。鑽石粒子的脫落・磨耗會造成污染與研磨不均，因此定期目視檢查與監測研磨輪廓很重要。3M・Entegris的高品質修整碟粒子脫落率低，對先進節點的支援也持續推進。

研磨墊修整器的主要廠商有哪些？

修整碟的主要供應商為3M（美國）・Entegris（美國）・中國砂輪（Kinik Company，台灣）・東京精密（日本）。與CMP設備一體的修整模組，則由應用材料（Applied Materials）・荏原製作所（EBARA）等設備廠商整合在設備中。在日本，一般會搭配Rohm and Haas（現為DuPont）的研磨墊進行系統選擇。