E3640 是愛德萬測試的 MASK MVM-SEM。高精度量測光罩與圖案化媒體微細圖案的尺寸。為光罩用 SEM 市場廣泛使用的 E3600 系列機型。
大幅改善量測重複性與產能，支援 1X nm 節點製程。除了目前微影主流的光罩之外，也可用於 EUV 光罩與奈米壓印（NIL）用模板。
支援模擬曝光，可與 EDA 工具連動，更準確地量測熱點。也能進行即時 3D 觀察與 3D 量測。
MASK MVM-SEM E3640的特點與規格
愛德萬測試（Advantest）・光罩尺寸・平坦度量測設備
高精度量測光罩與圖案化媒體微細圖案尺寸、支援 1X nm 節點的 MVM-SEM。
產品概要
主要規格
| 對象 | 光罩・EUV 光罩・NIL 模板 |
|---|---|
| 適用節點 | 1X nm |
| 功能 | 模擬曝光・EDA 連動・即時 3D 觀察 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
支援 1X nm 節點
支援 EUV 光罩・NIL 模板
EDA 連動・3D 量測
主要用途
- 光罩的尺寸量測
製造商與在台據點
在台據點
- 愛德萬測試（台灣）（新竹縣竹北市）：1990 年成立的台灣子公司總部
- 高雄據點（高雄）：就近支援南部封測廠