MASK MVM-SEM E3650 是愛德萬測試（Advantest）的光罩用 CD-SEM（尺寸量測設備）。以獨家的電子束掃描技術，高精度、高穩定地量測光罩上的圖案尺寸。
對象為 sub-10nm 節點元件用光罩、EUV 光罩、奈米壓印的母模板。支援微細圖案的 CD 量測、MAM（Move Acquire Measure）時間最佳化、大視野量測、使用設計資料的 DBM（Design Based Metrology），以及 3D 觀察。
量測產能提升為前一代機型 E3640 的 2 倍，量測重複性與長期 CD 量測穩定性也有所提高。是為因應多重圖案化與微縮所增加的光罩數與量測點數而設計的設備，為廣受採用的 E3600 系列最新機型。