E3660 是愛德萬測試支援 2nm 以下節點光罩的 MASK CD-SEM。在最先進的微影中，多重曝光造成光罩數增加，加上圖案形狀日益複雜，量測點數大幅增加。隨著多電子束光罩寫入機等設備也能設計曲線圖案，考量曲率的量測也變得必要。
量測精度較前一代機型 E3650 提高 20% 以上。以高精度、廣視野的 SEM 影像進行多點同時量測，並以高精度輪廓擷取支援微影模擬。以 Z 平台的對焦控制與臭氧原位清潔，即使不調整也能長期穩定量測 CD。
支援依設計資料規則自動產生多點量測配方的 DBM（Design Based Metrology），可量測熱點與窄圖案。也擁有曲線圖案專用的獨家量測演算法。用於 EUV 光罩與奈米壓印用母模板。