MPM193 系列是 Lasertec 的相位差・穿透率量測設備,為已成為業界標準機型的 ArF(193nm)用相位移量量測設備。
以與曝光機相同的波長直接量測相位移量,也能量測半色調型相位移光罩的穿透率。對地板振動與設備內部氣流擾動具有高穩定性。
燈源的 MPM193Ⅱ 量測重複性為相位差 0.5°・穿透率 0.2%(3σ),雷射光源的 MPM193EX 為相位差 0.2°・穿透率 0.04%(3σ)。
業界標準機型的 ArF 用相位移量量測設備。以與曝光相同的 193nm 直接量測相位差與穿透率。
MPM193 系列是 Lasertec 的相位差・穿透率量測設備,為已成為業界標準機型的 ArF(193nm)用相位移量量測設備。
以與曝光機相同的波長直接量測相位移量,也能量測半色調型相位移光罩的穿透率。對地板振動與設備內部氣流擾動具有高穩定性。
燈源的 MPM193Ⅱ 量測重複性為相位差 0.5°・穿透率 0.2%(3σ),雷射光源的 MPM193EX 為相位差 0.2°・穿透率 0.04%(3σ)。
| 量測波長 | 193 nm(ArF) |
|---|---|
| 重複性(MPM193EX) | 相位差 0.2°・穿透率 0.04%(3σ) |
| 產品線 | MPM193Ⅱ(燈源)・MPM193EX(雷射光源) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。