光罩尺寸・平坦度量測設備是什麼

光罩尺寸・平坦度量測設備是量測完成之光罩的圖案尺寸（CD）、位置精度（Registration）與基板平坦度的設備。光罩上的尺寸誤差會因光罩誤差增強因子（MEEF）在晶圓上被放大呈現，位置偏差則直接造成疊對誤差。EUV 光罩屬於反射光學系統，基板的些微翹曲就會使成像位置偏移，對平坦度的要求遠比穿透式光罩嚴格。

重點整理

量測光罩的 CD・Registration・平坦度
光罩的 CD 誤差會因 MEEF 在晶圓上被放大呈現
位置精度的誤差直接造成曝光的疊對誤差
EUV 屬於反射光學系統，對基板平坦度的要求特別嚴格

相關用語

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