MASK MVM-SEM E3640とは
E3640 は、アドバンテストの MASK MVM-SEM です。マスクやパターンドメディアの微細パターンの寸法を高い精度で測ります。マスク用 SEM 市場で広く使われている E3600 シリーズの機種です。
測定の再現性とスループットを大きく改善し、1X nm ノードのプロセスに対応しました。現在のリソグラフィの主流であるフォトマスクに加え、EUV マスクやナノインプリント（NIL）用テンプレートにも使えます。
シミュレーション露光に対応し、EDA ツールと連携してホットスポットをより正確に測れます。リアルタイムでの 3D 観察と 3D 計測もできます。
主な特長
- •1X nm ノード対応
- •EUV マスク・NIL テンプレートに対応
- •EDA 連携・3D 計測
主な仕様
| 対象 | フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート |
|---|---|
| 対応ノード | 1X nm |
| 機能 | シミュレーション露光・EDA 連携・リアルタイム 3D 観察 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | ホロン電子ビーム フォトマスクパターン寸法測定装置 | アドバンテストMASK MVM-SEM® E3650 | アドバンテストMASK MVM-SEM® E3640 | アドバンテストMASK CD-SEM E3660 | SCREENホールディングスDR-8000（自動線幅測定装置） | レーザーテックMPM193 シリーズ | レーザーテックMPM248 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対象 | — | — | フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート | 2nm 未満のノードのフォトマスク・NIL マスターテンプレート | 4〜9 インチマスク・大型 FPD マスク（G6〜G10） | — | — |
| 測定方式 | 電子ビーム（マスク用 CD-SEM） | マスク用 CD-SEM（多次元観察・測長） | — | — | — | — | — |
| 関連機種 | LEXa シリーズ（フォトマスク欠陥レビュー分析） | E3660（2nm 以降向け・2025年） | — | — | — | — | — |
| 主要用途 | フォトマスクの線幅測定 | マスクパターン寸法・輪郭の計測 | — | — | — | — | — |
| 機能 | — | — | シミュレーション露光・EDA 連携・リアルタイム 3D 観察 | 広視野測定・DBM・曲線パターン測定 | — | — | — |
| 測定波長 | — | — | — | — | — | 193 nm（ArF） | 248 nm（KrF） |
1機種だけが掲載している項目（9件）
| 対象マスク | — | 先端フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対応ノード | — | — | 1X nm | — | — | — | — |
| 測定精度 | — | — | — | E3650 比 20% 以上向上 | — | — | — |
| 方式 | — | — | — | — | 高解像度 UV 顕微鏡 | — | — |
| 測定項目 | — | — | — | — | CD・空中像・透過率（繰り返し精度 0.1% 以下）・位相シフト量 | — | — |
| 再現性（MPM193EX） | — | — | — | — | — | 位相差 0.2°・透過率 0.04%（3σ） | — |
| ラインアップ | — | — | — | — | — | MPM193Ⅱ（ランプ光源）・MPM193EX（レーザー光源） | — |
| 再現性 | — | — | — | — | — | — | 位相差 0.5°・透過率 0.2%（3σ） |
| 基板 | — | — | — | — | — | — | 6025 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •フォトマスクの寸法計測
掲載カテゴリ
MASK MVM-SEM E3640は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
マスク寸法・平面度測定装置のほかの製品
アドバンテストのほかの製品
V93000 EXA Scale（ロジックテストシステム）T5503HS2（メモリテストシステム）T5851／T5851ES（メモリテストシステム）MASK MVM-SEM® E3650（マスク寸法・平面度測定装置）T2000（最終テスト装置）M6242（テストハンドラ）（テストハンドラ）V93000 パワー・アナログソリューション（アナログ・リニアテストシステム）T5801（メモリテストシステム）T5835（メモリテストシステム）T5830（メモリテストシステム）T5833（メモリテストシステム）T5511（メモリテストシステム）T5221（メモリテストシステム）T5230（メモリテストシステム）H5620（メモリテストシステム）B6700 シリーズ（バーンインシステム）T6391（混在型テストシステム）EVA100（アナログ・リニアテストシステム）EXAVIS（パワー半導体）MT100／MT200（パワー半導体テストシステム）（パワー半導体）M5241（テストハンドラ）（テストハンドラ）M4841（テストハンドラ）（テストハンドラ）M4872（テストハンドラ）（テストハンドラ）M4173（テストハンドラ）（テストハンドラ）HA7200（温度・圧力ユニット）（MEMS）HA7300（Stimulus Test Cell）（MEMS）HA1200（ダイレベルプローバ）（ウェハプローバー）7038（システムレベルテスト）（最終テスト装置）MASK CD-SEM E3660（マスク寸法・平面度測定装置）MASK DR-SEM E5620（マスク検査装置）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07