最後更新:2026年10月23日EUV 曝光機

TWINSCAN NXE:3400C的特點與規格

艾司摩爾(ASML)・EUV 曝光機

支援 7nm・5nm 節點 EUV 量產的曝光機。為 NXE:3400B 的後繼機種,每小時處理 170 片以上 300mm 晶圓。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

TWINSCAN NXE:3400C 是艾司摩爾的 EUV 曝光機,為 NXE:3400B 的後繼機種。以更高的生產力支援 7nm 與 5nm 節點的 EUV 量產。

結合高生產力、優異解析度、與 EUV 的 NXE 設備及 ArF 浸潤式 NXT 設備間的疊對匹配,以及對焦性能,提供可補足該公司 ArF 浸潤式技術的微影能力。

透過 EUV 光源的產業化,以及疊對、對焦、生產力的改善,使自2019年下半年起具成本效益的量產成為可能。300mm 晶圓的產出規格為每小時 170 片以上。

主要規格

光源EUV(13.5nm)
產出每小時 170 片以上(300mm)
對象節點7nm・5nm

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

NXE:3400B 的後繼機種
每小時 170 片以上
與 NXE・NXT 的疊對匹配

主要用途

  • 7nm・5nm 節點的 EUV 量產

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹):2003 年成立
  • 林口據點・新廠區(新北市林口區):客戶支援與工廠;林口工一產業園區新廠是在台最大投資
  • 台中・台南據點(台中・台南):客戶支援據點,台南另設工廠

所屬設備分類

相關用語

同分類的其他機型

艾司摩爾(ASML)的其他機型

資料來源

  1. 艾司摩爾(ASML)官方產品頁面:ASML TWINSCAN NXE:3400C