TWINSCAN NXE:3400C 是艾司摩爾的 EUV 曝光機,為 NXE:3400B 的後繼機種。以更高的生產力支援 7nm 與 5nm 節點的 EUV 量產。
結合高生產力、優異解析度、與 EUV 的 NXE 設備及 ArF 浸潤式 NXT 設備間的疊對匹配,以及對焦性能,提供可補足該公司 ArF 浸潤式技術的微影能力。
透過 EUV 光源的產業化,以及疊對、對焦、生產力的改善,使自2019年下半年起具成本效益的量產成為可能。300mm 晶圓的產出規格為每小時 170 片以上。
支援 7nm・5nm 節點 EUV 量產的曝光機。為 NXE:3400B 的後繼機種,每小時處理 170 片以上 300mm 晶圓。
TWINSCAN NXE:3400C 是艾司摩爾的 EUV 曝光機,為 NXE:3400B 的後繼機種。以更高的生產力支援 7nm 與 5nm 節點的 EUV 量產。
結合高生產力、優異解析度、與 EUV 的 NXE 設備及 ArF 浸潤式 NXT 設備間的疊對匹配,以及對焦性能,提供可補足該公司 ArF 浸潤式技術的微影能力。
透過 EUV 光源的產業化,以及疊對、對焦、生產力的改善,使自2019年下半年起具成本效益的量產成為可能。300mm 晶圓的產出規格為每小時 170 片以上。
| 光源 | EUV(13.5nm) |
|---|---|
| 產出 | 每小時 170 片以上(300mm) |
| 對象節點 | 7nm・5nm |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。