最後更新:2026年10月23日EUV 曝光機

TWINSCAN NXE:3800E的特點與規格

艾司摩爾(ASML)・EUV 曝光機

NXE:3600D 的後繼 EUV 曝光機。支援 2nm 邏輯與先進 DRAM 量產,大幅提升生產力。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

TWINSCAN NXE:3800E 是艾司摩爾的雙載台 EUV 曝光機,為 NXE:3600D 的後繼機種。支援 2nm 邏輯節點與先進 DRAM 節點的量產。

除改善成像與疊對外,也大幅提升了生產力。設計為以良好成本效益支援 2nm 邏輯與先進 DRAM 量產,其圖案化能力可補足該公司的浸潤式曝光機。

生產力提升的關鍵是新的下部模組。這個與 0.55 NA EXE 平台共通的模組,包含新的晶圓傳送器、更快的晶圓載台等提升產出的零組件。光源輸出也已提高。

主要規格

光源EUV(13.5nm)
投影光學系統NA 0.33
主要用途2nm 邏輯・先進 DRAM 量產

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

NXE:3600D 的後繼機種
與 EXE 共通的新下部模組
大幅提升生產力

主要用途

  • 2nm 邏輯
  • 先進 DRAM

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹):2003 年成立
  • 林口據點・新廠區(新北市林口區):客戶支援與工廠;林口工一產業園區新廠是在台最大投資
  • 台中・台南據點(台中・台南):客戶支援據點,台南另設工廠

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資料來源

  1. 艾司摩爾(ASML)官方產品頁面:ASML TWINSCAN NXE:3800E