QualiSurf的特點與規格

QualiSurf 是科磊（KLA）的線上化學品監控系統。在半導體 FEOL、MOL、BEOL 的先進清洗與濕式蝕刻中，減少因化學品狀態不佳造成的浪費。

不僅是化學品成分，也以蝕刻產生的物質與製程汙染物（回收化學品的情況）為對象，從光譜、電化學、滴定等 15 種以上分析方法取得資訊。

以自動校正、驗證與分析儀的自我診斷，確保高精度與高再現性。用於 SiGe・氮化膜・多晶矽的蝕刻、W・Cu・Co 蝕刻後殘留物的去除、硬遮罩與蝕刻停止層的去除、光阻的去除與重工等。