廠務設施
晶圓廠廠務設施是指在半導體製造設備本體之外，支撐整座工廠（晶圓廠）運轉的基礎設施，包括無塵室、電力供應、超純水（UPW）、特殊氣體・化學品管路、排氣・廢水處理等，其純度與穩定性直接左右最終產品的良率與環境績效。這是為了 24 小時 365 天持續維持製造設備所要求之超高潔淨・超高精度物理環境的核心基礎設施，在先進晶圓廠中，總投資額的相當部分會分配給這些設施。由於這是前段製程・後段製程所有設備類別正常運作的前提條件，因此是與設備選型同等重要的設計對象。
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尾氣處理設備（abatement system）是在半導體製造製程中產生的有害副產物與未反應氣體排放至大氣前，將其無害化的環境・安全設備。
化學品供應系統化學品供應系統（Chemical Delivery System）是對晶圓清洗、蝕刻、CMP、光阻塗布等前段製程各設備，精密計量・混合並供應高純度化學品（HF・硫酸・SC-1/SC…
無塵室零組件無塵室零組件不是指建築物本身，而是實際創造並維持潔淨度之零組件的類別。
無塵室設備無塵室設備是為了徹底去除・控制半導體製造中最大的良率阻礙因素——微粒（微粒子）——而設的空調・過濾・氣流控制系統。
廠務設備晶圓廠廠務設備是支撐半導體工廠穩定運轉的電力、超純水（UPW）、特殊氣體、化學品、排氣、廢水處理等綜合基礎設施。
氣體供應・偵測系統氣體供應・偵測系統是將氣體送達整座晶圓廠，並守護其純度與安全的設施類別。
高純度管路・工程高純度管路・工程是將超純水、化學品、特殊氣體送達晶圓廠內各設備之管路系統的施工技術。
屏蔽室・防振建築屏蔽室・防振建築是保護精密設備免受電磁雜訊與振動等外部干擾的結構設施。
超純水製造系統超純水（UPW：Ultrapure Water）製造系統是將半導體晶圓清洗製程所用的水精製至超高純度的廠務設施。
廢水處理設備廢水處理設備是將清洗、蝕刻、CMP 所產生的廢水處理至法規標準值後，再予以排放或再利用的設備。