最後更新:2026年10月23日離子佈植劑量量測設備

Therma-Probe 780的特點與規格

科磊(KLA)・離子佈植劑量量測設備

以熱波技術線上監控離子佈植劑量與分布、退火均勻性的設備。針對未滿 1X nm 的節點。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Therma-Probe 780 是科磊(KLA)的離子佈植・退火量測設備。在製程途中線上監控離子佈植的劑量(佈植量)。

使用讀取調變雷射所產生之反射率變化的熱波技術,取得佈植劑量與分布輪廓、佈植與退火的均勻性、佈植末端損傷(EOR 損傷)等資訊。

可透過高解析度的微觀均勻性分布圖掌握各設備的特徵(指紋),因此也用於佈植・退火製程的開發。除了先進節點外也支援化合物半導體元件,與前一機種 Therma-Probe 680XP 一同列於產品線中。

主要規格

量測方式熱波(以調變雷射造成的反射率變化)
對象節點未滿 1X nm
量測項目佈植劑量・分布輪廓・退火均勻性・EOR 損傷
主要用途離子佈植・退火製程的線上監控

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

以熱波進行非接觸量測
劑量・分布輪廓・均勻性・EOR 損傷
高解析度的微觀均勻性分布圖

主要用途

  • 離子佈植的線上監控
  • 退火均勻性的評估
  • 設備間匹配

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹縣竹北市):台元科技園區,2025 年啟用新辦公室與訓練中心
  • 各地據點(新竹・桃園・林口・台中・台南・高雄):就近支援各科學園區的客戶

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資料來源

  1. 科磊(KLA)官方產品頁面:KLA