Therma-Probe 780 是科磊(KLA)的離子佈植・退火量測設備。在製程途中線上監控離子佈植的劑量(佈植量)。
使用讀取調變雷射所產生之反射率變化的熱波技術,取得佈植劑量與分布輪廓、佈植與退火的均勻性、佈植末端損傷(EOR 損傷)等資訊。
可透過高解析度的微觀均勻性分布圖掌握各設備的特徵(指紋),因此也用於佈植・退火製程的開發。除了先進節點外也支援化合物半導體元件,與前一機種 Therma-Probe 680XP 一同列於產品線中。
以熱波技術線上監控離子佈植劑量與分布、退火均勻性的設備。針對未滿 1X nm 的節點。
Therma-Probe 780 是科磊(KLA)的離子佈植・退火量測設備。在製程途中線上監控離子佈植的劑量(佈植量)。
使用讀取調變雷射所產生之反射率變化的熱波技術,取得佈植劑量與分布輪廓、佈植與退火的均勻性、佈植末端損傷(EOR 損傷)等資訊。
可透過高解析度的微觀均勻性分布圖掌握各設備的特徵(指紋),因此也用於佈植・退火製程的開發。除了先進節點外也支援化合物半導體元件,與前一機種 Therma-Probe 680XP 一同列於產品線中。
| 量測方式 | 熱波(以調變雷射造成的反射率變化) |
|---|---|
| 對象節點 | 未滿 1X nm |
| 量測項目 | 佈植劑量・分布輪廓・退火均勻性・EOR 損傷 |
| 主要用途 | 離子佈植・退火製程的線上監控 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。