Axion T2000 是科磊(KLA)以 X 射線進行的尺寸量測設備。以高解析度、快速、準確且非破壞的方式,量測先進 3D NAND 與 DRAM 所使用之高深寬比結構的 3D 形狀。
找出彎曲、翹曲、CD 輪廓、蝕刻深度、橢圓度、傾斜等影響記憶體性能與良率的細微結構變化。
由於能在線上非破壞量測,在研發中可取代耗時的破壞性 FIB-SEM、TEM 與截面 SEM,加快學習週期。在量產中則用於關鍵製程的評估・監控・管理。
以 X 射線非破壞量測 3D NAND 與 DRAM 高深寬比結構 3D 形狀的尺寸量測設備。
Axion T2000 是科磊(KLA)以 X 射線進行的尺寸量測設備。以高解析度、快速、準確且非破壞的方式,量測先進 3D NAND 與 DRAM 所使用之高深寬比結構的 3D 形狀。
找出彎曲、翹曲、CD 輪廓、蝕刻深度、橢圓度、傾斜等影響記憶體性能與良率的細微結構變化。
由於能在線上非破壞量測,在研發中可取代耗時的破壞性 FIB-SEM、TEM 與截面 SEM,加快學習週期。在量產中則用於關鍵製程的評估・監控・管理。
| 方式 | 以 X 射線進行 CD・形狀量測(非破壞) |
|---|---|
| 量測項目 | 彎曲・翹曲・CD 輪廓・蝕刻深度・橢圓度・傾斜 |
| 主要用途 | 3D NAND・DRAM 的高深寬比結構 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。