最後更新:2026年10月23日光學關鍵尺寸量測設備(OCD)

Axion T2000的特點與規格

科磊(KLA)・光學關鍵尺寸量測設備(OCD)

以 X 射線非破壞量測 3D NAND 與 DRAM 高深寬比結構 3D 形狀的尺寸量測設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Axion T2000 是科磊(KLA)以 X 射線進行的尺寸量測設備。以高解析度、快速、準確且非破壞的方式,量測先進 3D NAND 與 DRAM 所使用之高深寬比結構的 3D 形狀。

找出彎曲、翹曲、CD 輪廓、蝕刻深度、橢圓度、傾斜等影響記憶體性能與良率的細微結構變化。

由於能在線上非破壞量測,在研發中可取代耗時的破壞性 FIB-SEM、TEM 與截面 SEM,加快學習週期。在量產中則用於關鍵製程的評估・監控・管理。

主要規格

方式以 X 射線進行 CD・形狀量測(非破壞)
量測項目彎曲・翹曲・CD 輪廓・蝕刻深度・橢圓度・傾斜
主要用途3D NAND・DRAM 的高深寬比結構

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

以 X 射線進行非破壞 3D 形狀量測
偵測高深寬比結構的細微變化
取代 FIB-SEM・TEM

主要用途

  • 3D NAND 的通道孔量測
  • DRAM 的高深寬比結構
  • 蝕刻設備的監控

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹縣竹北市):台元科技園區,2025 年啟用新辦公室與訓練中心
  • 各地據點(新竹・桃園・林口・台中・台南・高雄):就近支援各科學園區的客戶

所屬設備分類

相關用語

同分類的其他機型

科磊(KLA)的其他機型

資料來源

  1. 科磊(KLA)官方產品頁面:KLA