CS 是愛發科(ULVAC)的單腔式濺鍍設備。支援從研究開發到小規模生產,活用以往的製程資料與技術經驗,以重視易用性的設計全面更新。
支援以多個陰極進行疊層濺鍍,可透過配方控制自動沉積多層膜,也能進行資料記錄。
基板傳送能力最大 Φ300mm,成膜性能保證至 Φ190mm。負載鎖定腔的卡匣最多可收納 5 個托盤,以機械手自動傳送。用於電子零件的研究開發與小規模生產。
從研究開發到小規模生產皆可使用的單腔式濺鍍設備,可用多個陰極進行疊層成膜。
CS 是愛發科(ULVAC)的單腔式濺鍍設備。支援從研究開發到小規模生產,活用以往的製程資料與技術經驗,以重視易用性的設計全面更新。
支援以多個陰極進行疊層濺鍍,可透過配方控制自動沉積多層膜,也能進行資料記錄。
基板傳送能力最大 Φ300mm,成膜性能保證至 Φ190mm。負載鎖定腔的卡匣最多可收納 5 個托盤,以機械手自動傳送。用於電子零件的研究開發與小規模生產。
| 方式 | 單腔・多陰極 |
|---|---|
| 基板 | 傳送最大 Φ300mm(成膜性能保證至 Φ190mm) |
| 負載鎖定 | 最多收納 5 個托盤 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
愛發科(ULVAC)(總部:日本)