最後更新:2026年10月23日真空蒸鍍設備

ei-5/EVD-600LP的特點與規格

愛發科(ULVAC)・真空蒸鍍設備

研發・少量生產用的泛用蒸鍍設備 ei-5,以及針對剝離(lift-off)製程的量產蒸鍍設備 EVD-600LP。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

ei-5 與 EVD-600LP 是愛發科(ULVAC)的批次式蒸鍍設備。有研發到少量生產用的泛用機型 ei-5,以及針對剝離製程的量產機型 EVD-600LP。

是在基板上沉積金屬或氧化物的設備,以操作面板集中控制,可自動進行抽氣與沉積操作。可搭載 EB、電阻加熱、EB 與電阻組合等多種蒸發源,配方功能、資料記錄、保養輔助等功能可透過 PC 操作。

支援 Φ50~200mm 與矩形基板,以及 Si、化合物、玻璃、陶瓷等各種基板。EVD 改善了剝離性能,可搭載更多基板。用於功率元件等化合物半導體,以及 LED・LD・高速元件的電極形成。

主要規格

蒸發源EB 槍・電阻加熱
基板Φ50~200mm・矩形,Si・化合物・玻璃・陶瓷
基板夾具公轉・行星式・衛星式(ei-5)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

泛用機與剝離量產機
多種蒸發源
支援各種基板

主要用途

  • 化合物半導體元件的電極蒸鍍
  • 剝離製程

製造商

愛發科(ULVAC)(總部:日本)

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資料來源

  1. 愛發科(ULVAC)官方產品頁面:ei-5 EVD-600LP