ei-5 是愛發科（ULVAC）的批次式真空蒸鍍設備。蒸發源可從電子束（EB）、電阻加熱、EB＋電阻加熱中選擇，可處理直徑 50～200mm 的晶圓與方形基板。基板材質支援 Si、化合物、玻璃、陶瓷。
基板夾具可從公轉、行星式、衛星式中選擇，蒸發源與基板距離為 680mm，標準抽氣系統使用 16 吋低溫幫浦。從抽氣到沉積自動進行，並具備以 PC 操作的配方功能、資料記錄與保養輔助功能。
姊妹機 EVD-600LP 針對剝離（lift-off）製程，可搭載更多基板。用途為功率元件、LED・LD、高速元件的電極形成，以及實驗用途與電子零件全般。