最後更新:2026年10月23日磊晶成長設備

Propel GaN MOCVD的特點與規格

Veeco・磊晶成長設備

Veeco 的單晶圓式 GaN MOCVD 設備,針對功率・5G RF・光子學,另有支援 300mm 的全自動叢集式機種。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Propel 是 Veeco 的 GaN(氮化鎵)系 MOCVD 設備系列。採用單晶圓式反應器技術,進行功率、5G RF、光子學用 GaN 元件的磊晶成長。

產品線包括量產用的 Propel HVM、處理 300mm 基板的全自動單晶圓叢集式機種 Propel 300mm,以及研發與少量生產用的彈性 GaN 系系統。300mm 機種以 5G RF、光子學與先進 CMOS 元件為對象。

Veeco 除了 GaN 系的 Propel 外,也推出針對 As/P 系磊晶、採用獨家 TurboDisc 反應器技術的 Lumina/Lumina+,以及 LED 生產用的 EPIK 868,涵蓋顯示器、3D 感測、LiDAR、微型 LED、光通訊等用途。

主要規格

方式單晶圓式 MOCVD
對象薄膜GaN 系
主要用途GaN 功率・5G RF・光子學

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

以單晶圓式反應器技術進行 GaN 磊晶
量產機 Propel HVM、300mm 全自動叢集式機種
另備研發・少量生產用機型

主要用途

  • GaN 功率元件
  • 5G RF 元件
  • 光子學・先進 CMOS

製造商

Veeco(總部:美國)

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資料來源

  1. Veeco 官方產品頁面:Veeco MOCVD Systems