Centura Xtera Epi的特點與規格

Centura Xtera Epi 是應用材料的選擇性磊晶成長設備。針對邏輯的 GAA 電晶體與記憶體的立式 FinFET 等，因轉向 3D 結構而需要在高深寬比結構中進行精密磊晶成長的需求而開發。

縮小成膜部的截面以提高原料補給，實現均勻且高品質的磊晶。最佳化用於成長複雜材料的化學物質供應，並即時監控・控制晶圓溫度以穩定製程。

以磊晶設備而言具有最小的製程容積，也能減少能源與材料的使用量。已被先進的晶圓代工邏輯客戶採用。