Intrepid 是 ASM 針對先進製程的磊晶成長設備。以等溫反應器處理晶圓，因此可在晶圓面內與晶圓間進行一致的溫度控制。
以新的閉迴路反應器控制技術，最佳化晶圓內與晶圓間的製程性能。透過個別控制燈管的精密加熱、一體式低容積腔體與真空氣密的高速氣體分配，實現優異的膜特性與低金屬汙染。
在清潔前可處理多片晶圓，具有業界最高的產能，低溫下也有高沉積速率與控制性。ASM 的 XP 叢集式平台最多可搭載 4 個模組，並可用 Previum 預清洗模組進行磊晶前的表面處理。用於 CMOS 電晶體的通道層等。