前工程(ウェハプロセス)

プロセスエンジニア(半導体前工程)

最終更新:2026-08-30

この職種は何をするのか

プロセスエンジニアは、露光・エッチング・成膜・洗浄・CMPといった前工程の各工程について、レシピ(装置の加工条件)を設計し、日々の出来ばえを管理する職種です。担当は工程単位で分かれるのが一般的で、「エッチング担当」「成膜担当」のように特定の装置群と長く付き合います。膜厚・寸法・欠陥数といった計測値を統計的に監視し、規格を外れる前に条件を修正するのが中心的な仕事です。

仕事内容

レシピ開発と条件出し

新製品や新ノードの立ち上げで、目標の寸法・膜厚・形状を満たす装置条件を実験計画法(DOE)で探索します。ウェハを流して計測し、条件を振って再度流す、というループを何十回も回します。

日常のプロセス管理

SPC(統計的工程管理)の管理図で膜厚・CD・パーティクルを監視し、トレンドが動いたら装置か材料か計測かを切り分けます。APCによる自動補正のパラメータ設計もここに含まれます。

異常時の解析と対策

歩留まりが落ちたロットについて、欠陥検査画像や電気特性から原因工程を絞り込み、装置エンジニアや歩留まりエンジニアと組んで対策を打ちます。

装置・材料の評価と量産導入

新しい装置やレジスト・ガス・スラリーを評価し、量産条件へ落とし込みます。装置メーカーのアプリケーションエンジニアとやりとりする場面が多い仕事です。

担当する工程・装置

EUV露光装置半導体製造装置 / 前工程装置 / 露光装置ドライエッチング装置半導体製造装置 / 前工程装置 / エッチング装置CVD装置半導体製造装置 / 前工程装置 / 成膜装置ALD装置半導体製造装置 / 前工程装置 / 成膜装置酸化膜CMP装置半導体製造装置 / 前工程装置 / CMP装置RTP(急速熱処理)装置半導体製造装置 / 前工程装置 / 熱処理装置ビームライン式イオン注入装置半導体製造装置 / 前工程装置 / イオン注入装置

必要になる知識・用語

プロセス管理Process ControlAPC(先進プロセス制御)Advanced Process ControlSPC(統計的工程管理)Statistical Process Control歩留まり(イールド)YieldバーチャルメトロロジーVirtual Metrology

主な企業

TSMC(台湾積体電路製造)TWキオクシア(Kioxia)JPルネサスエレクトロニクスJPローム(ROHM)JPソニーセミコンダクタソリューションズ(Sony)JPMicron Technology(マイクロン)USRapidusJP

関連する技術比較

ドライエッチングとウェットエッチングの違いALDとCVDの違い(原子層成膜 vs 化学気相成膜)CVDとPVDの違い(成膜プロセス比較)イオン注入と熱拡散の違い(不純物導入プロセスの比較)

よくある質問

プロセスエンジニアはどの工程を担当しますか?

露光・エッチング・成膜・洗浄・CMP・熱処理・イオン注入のいずれか1〜2工程を担当するのが一般的です。工程ごとに背景の物理・化学も装置もまったく違うため、配属後は担当工程の専門家として育っていきます。

装置エンジニアとの違いは何ですか?

プロセスエンジニアは「ウェハの出来ばえ」に責任を持ち、装置エンジニアは「装置が仕様どおり動くこと」に責任を持ちます。同じ不具合でも、条件で直すのがプロセス、部品やハードで直すのが装置、という分担です。

どんな知識が必要ですか?

半導体デバイスの基礎、担当工程の物理・化学、そして統計です。実務ではSPCやDOEを日常的に使うため、データ解析力がそのまま成果の差になります。

関連する職種

プロセスインテグレーション前工程(ウェハプロセス)歩留まりエンジニア前工程(ウェハプロセス)装置エンジニア装置・材料メーカー検査・計測エンジニア前工程(ウェハプロセス)アプリケーションエンジニア装置・材料メーカー