当サイトでの位置づけ
Semiraiの国産ファウンドリカテゴリでは、IBMと連携して2nm世代ロジック半導体の国産量産を目指す日本の戦略的プロジェクトとして注目されます。
企業の強み
2nm世代ロジック半導体の国産量産を目標
IBM・imecとの技術提携による先端プロセス開発
日本政府の経済安全保障政策の中核プロジェクト
主要製品・ソリューション
先端ロジックファウンドリ
- •2nmロジック(開発中)
- •パイロットライン(千歳)
製品分野・業態
関連装置カテゴリ
EUV露光装置
EUV露光装置(Extreme Ultraviolet Lithography)は、波長13.5nmの極端紫外線を使用してウェハ上に超微細回路パターンを転写する露光装置です。
メーカー 2 社GAAプロセス装置GAAプロセス(Gate-All-Around Process)は、ゲート電極がトランジスタチャネルの四方を完全に囲む構造(GAA:Gate-All-Around)を形成するための製造プロセス技術です。
メーカー 8 社2nmプロセス装置2nmプロセスは、TSMCのN2(2025年量産予定)・IntelのIntel 20A/18A・SamsungのSF2などで代表される次世代先端半導体プロセスです。
メーカー 4 社先端パッケージング装置先端パッケージング装置は、複数のチップ(ダイ)を3次元的に積層・統合し、従来のワイヤボンドやフリップチップを超える高密度・高帯域幅接続を実現する後工程装置群です。
メーカー 6 社半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、Rapidusを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
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比較・違いを学ぶ
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