荏原製作所/真空ポンプ

EV-M型

反応副生成物が出る高負荷プロセスに向けた荏原のドライ真空ポンプ。耐食材料を標準で搭載する。

EV-M型とは

EV-M 型は、荏原製作所の省エネルギーと高負荷プロセスに向いたドライ真空ポンプです。半導体・液晶・太陽電池の製造工程のうち、反応副生成物が発生する高負荷のプロセスに、荏原独自の高温化技術で対応します。

高い省エネ性能で、高負荷プロセスへの対応と省エネルギーを同時に実現しました。耐腐食性の材料を標準で採用し、耐腐食性を高めるオプションもあります。オイルフリーで、50Hz と 60Hz で同じ性能を出せ、CE マーキング、SEMI-S2、NRTL にも対応できます。

ラインアップは、排気速度 1,800L/min の EV-M20N から、10,000〜80,000L/min の機種、最大 110,000L/min の EV-M1205SF までそろえています。到達圧力は 0.5Pa(EV-M20N は 5Pa)です。プロセス条件に応じて、幅広い高負荷プロセスに対応できます。

主な特長

  • •独自の高温化技術で高負荷プロセスに対応
  • •高い省エネ性能
  • •耐腐食性材料を標準採用、オイルフリー
  • •排気速度 1,800〜110,000L/min

主な仕様

方式ドライ真空ポンプ(回転速度制御)
特徴省エネ運転・最大排気量 110,000 L/min モデルあり
シリーズ構成EV-M 型/EV-X 型
主要用途エッチング・CVD・拡散

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

ドライ真空ポンプ:3機種の比較

項目Edwards Vacuum(Atlas Copco傘下)iXH Mk2荏原製作所EV-M型樫山工業NeoDry G シリーズ
方式ルーツ式ドライポンプドライ真空ポンプ(回転速度制御)空冷ドライ真空ポンプ
特徴入力電力 1.3 kW(前世代比 60% 減)・粉体処理機能省エネ運転・最大排気量 110,000 L/min モデルあり静音性・水蒸気処理能力を NeoDry-E から向上
シリーズ構成iXM/iXH/iXLEV-M 型/EV-X 型NeoDry-E(7E ~ 300E)/NeoDry-G
主要用途多層エッチング・CVD(腐食性ガス)エッチング・CVD・拡散半導体・電子部品などの真空排気

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •CVD・エッチングなど高負荷プロセスの排気
  • •液晶・太陽電池の製造工程

掲載カテゴリ

EV-M型は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

荏原製作所

CMP(化学機械研磨)装置と半導体製造用真空ポンプ・除害装置の大手。ポンプ・精密機械・環境事業を軸に、半導体製造インフラを幅広く支える。

荏原製作所 の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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