Pfeiffer Vacuum/真空ポンプ

HiPace® ターボ分子ポンプ

ハイブリッド軸受または磁気軸受の小型ターボ分子ポンプ。

HiPace ターボ分子ポンプとは

HiPace は、Pfeiffer Vacuum のターボ分子ポンプのシリーズです。小型の HiPace 10 Neo から大型の HiPace 2800/3400 IT まで 23 機種をそろえ、高真空・超高真空の用途に対応します。

軸受は、セラミックボールと永久磁石を組み合わせたハイブリッド方式と、完全な磁気浮上方式から選べます。高い排気速度とガス処理量、素早い立ち上がり、小型・軽量、低騒音・低振動が特長です。ハイブリッド軸受の機種は、セラミック軸受と潤滑液の交換を 30 分未満で行え、停止時間を減らせます。

水素のような軽いガスを圧縮するためのホルベック段付きの機種や、プラズマ化学処理で Kepla コーティングしたローターを持つ耐食機種もあります。コーティング、半導体製造、質量分析計や電子顕微鏡などの分析機器、可搬型の科学機器に使われます。

主な特長

  • •23 機種(HiPace 10 Neo〜2800/3400 IT)
  • •ハイブリッド軸受/磁気浮上軸受
  • •軸受交換 30 分未満(ハイブリッド)
  • •水素向けホルベック段・Kepla 耐食ローター

主な仕様

方式ターボ分子ポンプ(ハイブリッド/磁気軸受)
特徴低騒音・低振動・SEMI S2 対応
主要用途コーティング・半導体製造・分析装置

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

ターボ分子ポンプ:2機種の比較

項目Pfeiffer VacuumHiPace® ターボ分子ポンプPfeiffer VacuumATH シリーズ(ATH 500 M ~ ATH 3200 M)
方式ターボ分子ポンプ(ハイブリッド/磁気軸受)ターボ分子ポンプ(5 軸磁気浮上)
特徴低騒音・低振動・SEMI S2 対応高ガス処理量・保護軸受の高速復帰
主要用途コーティング・半導体製造・分析装置腐食性ガスを使う製造プロセス

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •半導体製造装置の高真空排気
  • •コーティング・分析機器

掲載カテゴリ

HiPace ターボ分子ポンプは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Pfeiffer Vacuum

半導体製造装置向け真空ポンプ・計測機器の世界的リーダー。ターボ分子ポンプ・スクロールポンプ・ドライポンプなど幅広い製品ラインでALD・CVD・PVD・エッチング装置の真空環境を支える。

Pfeiffer Vacuum の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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