MBM-3000とは
MBM-3000 は、ニューフレアテクノロジーのマルチビーム型マスク描画装置です。多数の電子ビームを同時に使ってフォトマスクにパターンを描くことで、描画時間が長くなりがちな先端 EUV マスクの生産性を高めます。
公開されている発表資料によると、12nm のビームレットと強力なカソードを搭載してビーム電流密度 3.6A/cm² を実現し、前機種 MBM-2000PLUS より高い解像度と速い描画速度を得ています。新しい光学系には、ビーム数を 2 倍にする次世代のブランキング・アパーチャ・アレイ（BAA）を採用しています。
同社のマルチビーム描画装置には、26 万本を超える電子ビームを高速・高精度に制御する 3nm+ ノード対応の MBM-2000PLUS や MBM-2000 があり、可変成形ビーム方式の EBM シリーズ（EBM-9500PLUS など）もそろえています。
主な特長
- •マルチ電子ビーム描画
- •12nm ビームレット、電流密度 3.6A/cm²
- •次世代 BAA でビーム数を 2 倍に
主な仕様
| 描画方式 | マルチ電子ビーム |
|---|---|
| 世代 | 2nm ノード |
| 特徴 | 12 nm ビームレット・電流密度 3.6 A/cm² |
| 関連機種 | MBM-2000PLUS（前機種） |
| 主要用途 | 先端フォトマスクの描画 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | ニューフレアテクノロジーMBM-3000 | 日本電子（JEOL）JBX-3200MVS |
|---|---|---|
| 描画方式 | マルチ電子ビーム | 可変成形ビーム（50 kV） |
| 世代 | 2nm ノード | 32 ～ 28nm ノード |
| 特徴 | 12 nm ビームレット・電流密度 3.6 A/cm² | 描画面積 150 × 150 mm・ドーズ変調・重ね描き機能 |
| 主要用途 | 先端フォトマスクの描画 | マスク・レチクル（レガシー品含む）の描画 |
1機種だけが掲載している項目（1件）
| 関連機種 | MBM-2000PLUS（前機種） | — |
|---|
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •次世代 EUV マスクの描画
掲載カテゴリ
MBM-3000は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
ニューフレアテクノロジー
半導体マスク（レチクル）製造用の電子線（EB）描画装置の世界最大手。浜松ホトニクスグループ。EUV対応マスクブランクスへのパターン描画に不可欠な装置を提供。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06