JBX-3200MVSとは
JBX-3200MVS は、日本電子（JEOL）の可変成形ビーム（VSB）型 電子ビーム描画装置です。フォトマスク・レチクルの製造に使われ、国内外のキャプティブとマーチャントのマスクショップで導入実績があります。
加速電圧は 50kV で、ステップ＆リピートのステージ方式を基本とし、ドーズ量の変調と重ね描画の機能を持ちます。可変成形ビームにより、レガシーマスクから最先端のレチクルまで、さまざまなパターニング補正に対応します。
32nm〜28nm ノードのマスク描画に対応し、つなぎ精度は ±3.5nm 以下、重ね合わせ精度は ±5nm 以下です。高速・高精度・高信頼性を目指した設計です。
主な特長
- •可変成形ビーム、加速電圧 50kV
- •ドーズ変調・重ね描画機能
- •つなぎ精度 ±3.5nm 以下・重ね合わせ精度 ±5nm 以下
主な仕様
| 描画方式 | 可変成形ビーム（50 kV） |
|---|---|
| 世代 | 32 ～ 28nm ノード |
| 特徴 | 描画面積 150 × 150 mm・ドーズ変調・重ね描き機能 |
| 主要用途 | マスク・レチクル（レガシー品含む）の描画 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | ニューフレアテクノロジーMBM-3000 | 日本電子（JEOL）JBX-3200MVS |
|---|---|---|
| 描画方式 | マルチ電子ビーム | 可変成形ビーム（50 kV） |
| 世代 | 2nm ノード | 32 ～ 28nm ノード |
| 特徴 | 12 nm ビームレット・電流密度 3.6 A/cm² | 描画面積 150 × 150 mm・ドーズ変調・重ね描き機能 |
| 主要用途 | 先端フォトマスクの描画 | マスク・レチクル（レガシー品含む）の描画 |
1機種だけが掲載している項目（1件）
| 関連機種 | MBM-2000PLUS（前機種） | — |
|---|
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •32〜28nm ノードのフォトマスク・レチクルの描画
- •レガシーマスクの製造
掲載カテゴリ
JBX-3200MVSは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
日本電子（JEOL）
電子顕微鏡・電子線描画装置・分析機器の総合メーカー。半導体分野ではマスク描画用EB装置・電子線露光装置、研究用TEM/SEMを提供。
マスク描画装置（EB描画）のほかの製品
日本電子（JEOL）のほかの製品
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06