膜厚モニター FE-300Fとは
FE-300F は、大塚電子の膜厚モニターです。光干渉法を使い、分光光度計で反射スペクトルを解析して、屈折率から光学的な膜厚を求めます。
測定範囲は SiO₂ 換算で 3nm〜35µm、測定スポット径は φ1.2mm、波長範囲は 300〜800nm です。分光光度計と光源の選択で測定範囲を選べ、絶対反射率を測れるため光学定数の解析もできます。
小型で手頃な価格、使いやすさを特長とし、リアルタイムのモニタリングとシミュレーション機能を持ちます。半導体の酸化膜・レジスト・SiC・GaN のほか、透明導電膜や位相差フィルム、DLC コート、光学フィルター、液晶・有機 EL の部材などの膜厚測定に使われます。
主な特長
- •光干渉法による膜厚測定
- •3nm〜35µm（SiO₂ 換算）、スポット φ1.2mm
- •リアルタイムモニタリング・シミュレーション
- •小型・手頃な価格
主な仕様
| 測定方式 | 分光干渉（紫外域の反射率測定） |
|---|---|
| 監視項目 | 膜厚 10 nm ～ 1.5 mm（最短 0.1 秒） |
| 主要用途 | 薄膜・厚膜の膜厚管理 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 浜松ホトニクスプラズマプロセスモニタ C10346-01 | 大塚電子膜厚モニター FE-300F |
|---|---|---|
| 測定方式 | プラズマ発光分光 | 分光干渉（紫外域の反射率測定） |
| 監視項目 | 終点判定・プラズマ種推定・不純物／異常放電 | 膜厚 10 nm ～ 1.5 mm（最短 0.1 秒） |
| 主要用途 | エッチング・クリーニングの終点検出 | 薄膜・厚膜の膜厚管理 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •酸化膜・レジストなどの膜厚モニタ
- •機能性フィルム・光学部材の膜厚測定
掲載カテゴリ
膜厚モニター FE-300Fは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
大塚電子
瞬時マルチ測光システムを核とする分光計測メーカー。分光方式の膜厚測定装置や光学特性評価装置を供給し、レジスト膜や薄膜の厚み・屈折率の測定に用いられる。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06