芝浦メカトロニクス/マスク洗浄・乾燥装置

ARTS®(MC-150 シリーズ)

薬液・UV・純水でフォトマスクを洗浄する芝浦メカトロニクスの枚葉式フォトマスク洗浄装置。凍結洗浄を搭載できる。

ARTSとは

ARTS は、芝浦メカトロニクスの枚葉式フォトマスク洗浄装置です。MC-150 シリーズとともに、次世代の EUV フォトマスクからレガシー品まで対応します。

高温の薬液、薬液メガソニック、UV、純水を使ってマスクを洗い、マスクにダメージを与えない凍結洗浄も搭載できます。6025 サイズのフォトマスクに対応し、金属を使わない構造です。

主な特長

  • •枚葉式のフォトマスク洗浄
  • •凍結洗浄(ダメージレス)を搭載可能
  • •EUV マスクからレガシー品まで対応

主な仕様

洗浄方式高温薬液・薬液メガソニック・凍結洗浄(ダメージレス)
対応マスク6025 フォトマスク
特徴メタルフリー構造
主要用途フォトマスクの微小異物除去

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目Suss MicroTecMaskTrack Pro芝浦メカトロニクスARTS®(MC-150 シリーズ)Applied MaterialsSigmameltec MRC Mask Clean Series
洗浄方式デュアルメガソニック・高圧ジェット・ブラシ・SC1/SPM・UV ドライ洗浄高温薬液・薬液メガソニック・凍結洗浄(ダメージレス)ダウンストリームプラズマ+ウェット 2 室
特徴ISO 14644 Class 2 環境・SECS/GEM 対応メタルフリー構造硫酸塩フリー・低アンモニウムでヘイズを抑制
対応マスク193i・EUV・NIL マスク6025 フォトマスク—
主要用途先端フォトマスクの洗浄フォトマスクの微小異物除去—
1機種だけが掲載している項目(1件)
使用薬液——オゾン水・CO₂ 水・SPM・SC-1 など

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •フォトマスクの微小異物除去
  • •EUV マスクの洗浄

掲載カテゴリ

ARTSは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

芝浦メカトロニクス

東芝グループの半導体・FPD製造装置メーカー。枚葉式の洗浄装置やスピンプロセッサ、ドライエッチング装置、成膜装置などを手掛ける。

芝浦メカトロニクス の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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