マスク洗浄・乾燥装置メーカー3社
マスク洗浄・乾燥装置は、フォトマスク（レチクル）表面に付着したパーティクル・有機汚染・ヘイズを除去する装置です。1枚のマスクは繰り返し露光に使われるため、マスク上の1個の欠陥がウェハ上の全ショットへ転写されます。薬液洗浄・メガソニック洗浄・CO₂スノー洗浄などが用いられ、洗浄によるパターンの膜減りや位相シフト材へのダメージを抑えることが技術的な要点です。EUVマスクではペリクルの制約から洗浄要求がさらに厳しくなります。
主要特徴
メーカー
3社の主要メーカー
東芝グループの半導体・FPD製造装置メーカー。枚葉式の洗浄装置やスピンプロセッサ、ドライエッチング装置、成膜装置などを手掛ける。
- •枚葉式洗浄・スピンプロセス装置に強み
- •半導体とFPDの両分野で装置を展開
ドイツを拠点とする半導体製造装置メーカー。ウェーハレベルパッケージングおよび先端リソグラフィ技術のスペシャリスト。
- •ウェーハレベルパッケージング装置における専門性
- •マスクアライナーおよび基板ボンディング技術
MOCVD・MBE・ALDなど薄膜エピタキシャル成長装置の専業メーカー。LED、化合物半導体、先端ロジック向けの精密成膜技術を提供。
- •MOCVD装置でグローバルトップシェア
- •MBE・ALDを含む多様な薄膜成長技術ポートフォリオ
関連カテゴリ
マスクコータ／デベロッパは、マスクブランクスへのレジスト塗布と、電子線描画後の現像を行う装置です。
メーカー 2 社マスクエッチング装置マスクエッチング装置は、電子線描画と現像を経たレジストパターンをマスクとして、ブランクス上のクロム膜や位相シフト膜（MoSi）をエッチングし、最終的な遮光パターンを形成する装置です。
メーカー 2 社マスク寸法・平面度測定装置マスク寸法・平面度測定装置は、完成したフォトマスクのパターン寸法（CD）・位置精度（レジストレーション）・基板の平坦度を測定する装置です。
メーカー 4 社マスク修正装置マスク修正装置は、製造後のフォトマスク（レチクル）に存在する欠陥を原子・ナノメートルレベルで除去・補修する装置です。
メーカー 3 社レチクルストッカーレチクルストッカーは、フォトマスク（レチクル）をクリーンな環境で保管し、露光装置からの要求に応じて自動で払い出す保管・搬送システムです。
メーカー 1 社マスク描画装置（EB描画）マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。
メーカー 5 社