Sigmameltec MRC Mask Clean Series
193i・EUV 用フォトマスクの洗浄装置。ダウンストリームプラズマと 2 つのウェット室、高周波メガソニックを組み合わせる。
Sigmameltec MRC Mask Clean Seriesとは
Sigmameltec MRC は、Applied Materials のフォトマスク洗浄装置です。193nm 液浸（193i）や EUV 露光に使う繊細なマスクに合わせ、強い薬液処理ではなく、穏やかな薬液と高周波のメガソニックで小さな粒子を取り除きます。
ダウンストリームプラズマでレジストや有機物を傷めずに除去し、EUV マスクのカーボン汚れにも対応します。2 つの洗浄室をウェット用ロボットでつなぎ、薬液洗浄と最終洗浄を分けています。薬液はオゾン水、CO₂ 水、TMAH を加えた水、SPM、SC-1 などから選べます。
「音響ブラシ」効果のある高周波メガソニック、UV 照射付きのオゾン水ノズル、微小液滴を当てるノズル、真空ベーク室、裏返さずに裏面も洗えるメガソニックを持ちます。硫酸塩を使わず、アンモニウムも少ない工程で、193i マスクのヘイズの発生を防ぎます。
主な特長
- •ダウンストリームプラズマで有機物除去
- •2 つのウェット室で工程を分離
- •高周波メガソニック
- •ヘイズを抑える薬液工程
主な仕様
| 洗浄方式 | ダウンストリームプラズマ＋ウェット 2 室 |
|---|---|
| 使用薬液 | オゾン水・CO₂ 水・SPM・SC-1 など |
| 特徴 | 硫酸塩フリー・低アンモニウムでヘイズを抑制 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Suss MicroTecMaskTrack Pro | 芝浦メカトロニクスARTS®（MC-150 シリーズ） | Applied MaterialsSigmameltec MRC Mask Clean Series |
|---|---|---|---|
| 洗浄方式 | デュアルメガソニック・高圧ジェット・ブラシ・SC1/SPM・UV ドライ洗浄 | 高温薬液・薬液メガソニック・凍結洗浄（ダメージレス） | ダウンストリームプラズマ＋ウェット 2 室 |
| 特徴 | ISO 14644 Class 2 環境・SECS/GEM 対応 | メタルフリー構造 | 硫酸塩フリー・低アンモニウムでヘイズを抑制 |
| 対応マスク | 193i・EUV・NIL マスク | 6025 フォトマスク | — |
| 主要用途 | 先端フォトマスクの洗浄 | フォトマスクの微小異物除去 | — |
1機種だけが掲載している項目（1件）
| 使用薬液 | — | — | オゾン水・CO₂ 水・SPM・SC-1 など |
|---|
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •193i マスクの洗浄
- •EUV マスクの洗浄
掲載カテゴリ
Sigmameltec MRC Mask Clean Seriesは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Applied Materials
世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。
マスク洗浄・乾燥装置のほかの製品
Applied Materialsのほかの製品
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07