クリーンルーム清浄度クラス計算ツール（ISO 14644-1）
最終更新：2026-09-26
要点
ISO 14644-1 の上限濃度は Cn = 10^N × (0.1/D)^2.08 個/m³ で、ISO 5 なら 0.5µm 以上の粒子が1m³あたり3,520個までです。旧米国規格のクラス100（1立方フィートあたり0.5µm以上が100個）は ISO 5、クラス1000 は ISO 6 に相当します。先端工場ではウェハを FOUP と EFEM の中で ISO 1〜2 相当に保っています。
入力
ISO 5 の 0.5 µm 以上の上限濃度3,517個/m³
（ft³ あたり）99.58個/ft³
（L あたり）3.517個/L
1点あたりの最少採取量5.7 L
最少測定点数（100 m²）16点
旧 FED-STD-209E の相当クラスClass 100
ISO 14644-1 の分類は 0.1〜5 µm の粒径が対象です。測定点数は2015年版の表 A.1 によるもので、1999年版の √面積 とは異なります。
ISO クラス別の上限濃度（個/m³、粒径以上の累積）
| クラス | 0.1µm | 0.2µm | 0.3µm | 0.5µm | 1µm | 5µm | FED-STD-209E |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ISO 1 | 10 | 2 | 1 | — | — | — | — |
| ISO 2 | 100 | 24 | 10 | 4 | — | — | — |
| ISO 3 | 1,000 | 237 | 102 | 35 | 8 | — | Class 1 |
| ISO 4 | 10,000 | 2,365 | 1,018 | 352 | 83 | 3 | Class 10 |
| ISO 5 | 1.00×10⁵ | 23,651 | 10,176 | 3,517 | 832 | 29 | Class 100 |
| ISO 6 | 1.00×10⁶ | 2.37×10⁵ | 1.02×10⁵ | 35,168 | 8,318 | 293 | Class 1,000 |
| ISO 7 | 1.00×10⁷ | 2.37×10⁶ | 1.02×10⁶ | 3.52×10⁵ | 83,176 | 2,925 | Class 10,000 |
| ISO 8 | 1.00×10⁸ | 2.37×10⁷ | 1.02×10⁷ | 3.52×10⁶ | 8.32×10⁵ | 29,251 | Class 100,000 |
| ISO 9 | 1.00×10⁹ | 2.37×10⁸ | 1.02×10⁸ | 3.52×10⁷ | 8.32×10⁶ | 2.93×10⁵ | — |
半導体工場の清浄度
ISO のクラス番号は「0.1µm以上の粒子が1m³あたり10のN乗個まで」を意味し、1つ上がるごとに許容粒子数が10倍になります。旧米国規格の「クラス100」は1立方フィートあたり0.5µm以上の粒子が100個以下という意味で、ISO 5に相当します。日本の現場では今もクラス100、クラス1000という呼び方が広く使われています。
最先端の半導体工場では、ウェハはFOUPやミニエンバイロメント（EFEM）の中でISO 1〜2相当の環境に保たれ、人が作業するベイはISO 4〜6程度に設計されます。ウェハを密閉容器で運ぶことで、工場全体を超高清浄にするより建設費と空調の運転費を大きく下げられるためです。