最後更新:2026年10月8日半導體材料半導體物理・晶體基礎中國大陸:密勒指数

米勒指數是什麼

Miller Index

米勒指數是用來表示晶體中晶面與方向、由3個整數組成的表示法,晶面以(100)之類的小括號、晶向以[100]之類的方括號表示,是指定半導體晶圓的晶面方向的標準方法。

目錄4 項
  1. 定義與原理
  2. 常見問題
  3. 相關用語
  4. 比較文章

定義與原理

米勒指數是用來表示晶體中晶面與方向、由3個整數組成的表示法。晶面以(100)、(110)、(111)之類的小括號表示,晶向則以[100]之類的方括號表示。是指定半導體晶圓的晶面方向的標準方法。

晶面的米勒指數,是將該晶面與各晶軸相交之截距取倒數,再化為整數比而求得。矽的代表性晶面有(100)面、(110)面、(111)面,各自的原子密度與鍵結方向不同。負的截距以加上橫槓的數字表示。

米勒指數與元件製造直接相關。目前的 CMOS 邏輯主要使用(100)面晶圓,界面能態少,可得到品質良好的閘極氧化層。另一方面,也有為了提高電洞遷移率而使用(110)面的例子,以及在功率半導體與 MEMS 中利用(111)面進行非等向性蝕刻的例子。

米勒指數的常見問題

什麼是米勒指數?
以3個整數表示晶體中晶面與方向的表示法。晶面以(100)之類的小括號、晶向以[100]之類的方括號表示,用於指定半導體晶圓的晶面方向。
米勒指數如何求得?
求出目標晶面與各晶軸相交的截距,取其倒數後化為整數比。將所得的整數組以小括號括起,記為(hkl)。負的截距則在數字上方加橫槓表示。
(100)面與(111)面如何區分使用?
目前的 CMOS 以界面能態少、可得到良好氧化層的(100)面為主流。(111)面可藉由非等向性蝕刻形成 V 形溝槽或垂直壁,因此在 MEMS 與功率半導體中被利用;為了提高電洞遷移率,有時也會使用(110)面。

相關設備・材料

比較文章

所屬主題