基座（Pedestal）在英文中意指「台座」，在半導體製造設備中是指在製程腔體內放置並支撐晶圓的台座。也稱為晶圓載台、承載座（susceptor），不只用來定位與固定晶圓，也負責加熱・冷卻晶圓以控制溫度，在使用電漿的設備中還擔任施加電壓的電極。由於晶圓直接與其接觸，它是左右膜厚與蝕刻速率面內均勻性的重要零組件。
基座的構造依設備而異。在CVD或ALD設備中，使用在氮化鋁（AlN）等陶瓷中內埋加熱器的加熱基座（陶瓷加熱器），將晶圓均勻加熱到數百℃。在蝕刻設備中，基座兼作以靜電力吸附晶圓的靜電吸盤，並以內部的冷媒流道和流經晶圓背面的氦氣帶走晶圓的熱以維持溫度。基座上有供頂針（lift pin）穿過的孔，頂針會將晶圓頂起以與傳送機械手臂交接晶圓；有些基座還具有上下移動以調整與噴淋頭（showerhead）間距的機構。
基座持續暴露在高溫、電漿與腐蝕性氣體中，因此材料必須兼具耐久性與潔淨性。表面磨耗、沉積物或溫度分布變化，會導致微粒產生與膜厚均勻性惡化，因此它也具有須定期清潔・更換的耗材性質。基座須具備在300mm晶圓整面將溫差控制在1℃左右的高均勻性，因此會採用將加熱器配置分成多個區域並個別控制等設計。