ペデスタル（Pedestal）とは、英語で「台座」を意味し、半導体製造装置ではプロセスチャンバーの中でウェハを載せて支える台のことです。ウェハステージ、サセプタとも呼ばれ、ウェハの位置を決めて保持するだけでなく、ウェハを加熱・冷却して温度を制御し、プラズマを使う装置では電極として電圧をかける役割も担います。ウェハが直接触れるため、膜厚やエッチング速度の面内の均一性を左右する重要な部品です。
装置によってペデスタルの作りは異なります。CVDやALDの装置では、窒化アルミニウム（AlN）などのセラミックスにヒーターを埋め込んだヒーターペデスタル（セラミックヒーター）が使われ、ウェハを数百℃に均一に加熱します。エッチング装置では、静電気の力でウェハを吸着する静電チャックを兼ね、内部の冷媒の流路と、ウェハの裏面に流すヘリウムガスでウェハの熱を逃がして温度を保ちます。ペデスタルには、ウェハを持ち上げて搬送ロボットとの受け渡しをするリフトピンが通る穴があり、上下に動いてシャワーヘッドとの間隔を調整する機構を持つものもあります。
ペデスタルは高温やプラズマ、腐食性のガスにさらされ続けるため、材料の耐久性と清浄性が求められます。表面の摩耗や堆積物、温度分布の変化は、パーティクルの発生や膜厚の均一性の悪化を招くため、定期的に清掃・交換する消耗品としての側面も持ちます。300mmウェハの全面で温度差を1℃前後に抑えるような高い均一性が求められ、ヒーターの配置を複数の区画に分けて別々に制御するなどの工夫がされています。