最後更新:2026年10月23日清洗晶圓清洗中國大陸:旋转冲洗干燥机(SRD)

SRD是什麼(旋轉沖洗乾燥機)

Spin Rinse Dryer (SRD)

旋轉沖洗乾燥機(SRD)是一邊旋轉晶圓一邊以超純水沖洗,接著直接高速旋轉、以離心力甩掉水分使其乾燥的設備。可在 1 台機台上連續完成沖洗與乾燥,長期廣泛用於濕式製程的最後收尾。水痕是其課題,要求嚴格的製程會改用 IPA 乾燥等方式。

目錄7 項
  1. 定義與原理
  2. 圖解
  3. 常見問題
  4. 相關企業
  5. 相關用語
  6. 比較文章
  7. 資料來源

定義與原理

旋轉沖洗乾燥機(SRD:Spin Rinse Dryer)是在清洗或蝕刻後,一邊旋轉晶圓一邊以超純水沖洗(rinse),接著直接高速旋轉、以離心力甩掉水分使其乾燥的設備。由於可在 1 台機台上連續完成沖洗與乾燥,長期廣泛用於濕式製程最後的收尾。

代表性的方式是將多片晶圓維持裝在卡匣中、在容器內旋轉的批次式,用來一次乾燥在濕式清洗槽完成藥液處理的晶圓。在容器中噴灑超純水沖掉藥液後,提高轉速甩掉水分,再通入加熱過的氮氣等完成乾燥。也有逐片旋轉進行相同處理的單片式機型,而在單片式清洗設備中,一般是在同一個處理腔內完成從清洗到乾燥的步驟。

課題在於水滴乾燥時溶在其中的微量成分或二氧化矽殘留形成的「水痕」,以及乾燥過程中揚起的微粒再附著。尤其疏水性的矽表面容易殘留水滴,更容易形成水痕。因此,在需要更嚴格潔淨度的製程中,會使用利用表面張力差將水拉離的 IPA 乾燥(馬蘭哥尼乾燥),或針對微細圖形的超臨界乾燥。

圖解

旋轉沖洗乾燥機、IPA 乾燥、超臨界乾燥 3 種乾燥方法的比較

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單片式清洗設備也會使用結合旋轉與 IPA 的乾燥方式。

SRD(旋轉沖洗乾燥機)的常見問題

旋轉乾燥為什麼會產生水痕?
因為留在晶圓上的小水滴乾燥時,原本溶在水中的少量矽、與氧的反應產物及髒汙會殘留在該處。尤其經氫氟酸處理後的疏水性矽表面,水滴容易聚成水珠殘留,更容易形成水痕。
旋轉沖洗乾燥機與 IPA 乾燥有何不同?
旋轉沖洗乾燥機是以旋轉的離心力甩掉水分使其乾燥。IPA 乾燥則是利用水與 IPA(異丙醇)的表面張力差,將水從晶圓表面拉離而乾燥的方法,特點是不易殘留水滴,較容易抑制水痕與微粒再附著。

相關設備・材料

相關企業

比較文章

所屬主題

資料來源

  1. 日本機械學會:親水性膜と疎水膜に対するIPA乾燥効果日文(2026年10月19日確認)
  2. SCREEN Semiconductor Solutions:洗浄工程(2026年10月19日確認)