真空計是測量腔體與管路壓力的量測零組件。半導體製程的壓力範圍從大氣壓（10⁵Pa）到超高真空（10⁻⁸Pa），跨越13個數量級，無法以單一原理涵蓋，因此需依壓力區間組合使用不同方式的真空計。
代表性方式有3種。①電容式壓力計（隔膜真空計）以靜電電容讀取隔膜的位移，不受氣體種類影響即可量測絕對壓力，因此最廣泛用於製程壓力控制。②皮拉尼真空計利用氣體的熱傳導，負責大氣壓～10⁻¹Pa左右的中真空區間。③電離真空計（冷陰極／熱陰極）由電離氣體所得的離子電流求出壓力，量測高真空～超高真空區間。
在製程控制上，真空計的讀值直接成為壓力控制迴路的輸入。一般會與節流閥（壓力控制閥）搭配，針對目標壓力自動調整排氣傳導率。蝕刻與成膜的結果強烈依存於壓力，因此真空計的零點漂移或污染造成的誤差，會直接轉化為製程變異。
在沉積性製程中，膜附著於感測部是量測誤差的主因。對策包括以加熱器加熱感測部以防止附著的加熱型電容式壓力計，以及定期校正與更換。皮拉尼與電離真空計的讀值會因氣體種類而改變，運用時必須了解針對實際氣體的修正係數。
主要廠商有MKS Instruments、Inficon、Pfeiffer Vacuum、ULVAC、Canon ANELVA等。每1台設備的搭載數量多，也常與壓力控制閥、MFC一起作為「製程控制子系統」供應。