MASK CD-SEM E3660

2nm 未満のノードのフォトマスクに対応する CD-SEM。前機種 E3650 より測定精度を 20% 以上高めた。

MASK CD-SEM E3660とは

E3660 は、アドバンテストの 2nm 未満のノードのフォトマスクに対応する MASK CD-SEM です。最先端のリソグラフィでは、多重露光によるマスク枚数の増加とパターン形状の高度化で、測定点数が飛躍的に増えています。マルチビームのマスク描画装置などで曲線パターンも設計できるようになり、曲率を考えた測定も必要になっています。

前機種 E3650 より測定精度を 20% 以上高めました。高精度で広視野の SEM 画像による多点同時測定と、高精度な輪郭抽出でリソグラフィのシミュレーションを支えます。Z ステージによるフォーカス制御とオゾンによるその場クリーニングで、無調整でも長期間安定して CD を測れます。

設計データに基づくルールで多点測定のレシピを自動生成する DBM（Design Based Metrology）に対応し、ホットスポットや狭いパターンを測れます。曲線パターン用の独自の測定アルゴリズムも持ちます。EUV マスクやナノインプリント用のマスターテンプレートに使われます。

主な特長

•2nm 未満のノード対応
•測定精度 20% 以上向上
•広視野測定・DBM
•曲線パターン測定

主な仕様

対象	2nm 未満のノードのフォトマスク・NIL マスターテンプレート
測定精度	E3650 比 20% 以上向上
機能	広視野測定・DBM・曲線パターン測定

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	ホロン電子ビームフォトマスクパターン寸法測定装置	アドバンテストMASK MVM-SEM® E3650	アドバンテストMASK MVM-SEM® E3640	アドバンテストMASK CD-SEM E3660	SCREENホールディングスDR-8000（自動線幅測定装置）	レーザーテックMPM193 シリーズ	レーザーテックMPM248
対象	—	—	フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート	2nm 未満のノードのフォトマスク・NIL マスターテンプレート	4〜9 インチマスク・大型 FPD マスク（G6〜G10）	—	—
測定方式	電子ビーム（マスク用 CD-SEM）	マスク用 CD-SEM（多次元観察・測長）	—	—	—	—	—
関連機種	LEXa シリーズ（フォトマスク欠陥レビュー分析）	E3660（2nm 以降向け・2025年）	—	—	—	—	—
主要用途	フォトマスクの線幅測定	マスクパターン寸法・輪郭の計測	—	—	—	—	—
機能	—	—	シミュレーション露光・EDA 連携・リアルタイム 3D 観察	広視野測定・DBM・曲線パターン測定	—	—	—
測定波長	—	—	—	—	—	193 nm（ArF）	248 nm（KrF）

1機種だけが掲載している項目（9件）

対象マスク	—	先端フォトマスク・EUV マスク・NIL テンプレート	—	—	—	—	—
対応ノード	—	—	1X nm	—	—	—	—
測定精度	—	—	—	E3650 比 20% 以上向上	—	—	—
方式	—	—	—	—	高解像度 UV 顕微鏡	—	—
測定項目	—	—	—	—	CD・空中像・透過率（繰り返し精度 0.1% 以下）・位相シフト量	—	—
再現性（MPM193EX）	—	—	—	—	—	位相差 0.2°・透過率 0.04%（3σ）	—
ラインアップ	—	—	—	—	—	MPM193Ⅱ（ランプ光源）・MPM193EX（レーザー光源）	—
再現性	—	—	—	—	—	—	位相差 0.5°・透過率 0.2%（3σ）
基板	—	—	—	—	—	—	6025