MASK DR-SEM E5620的特點與規格

E5620 是愛德萬測試（Advantest）的 MASK DR-SEM（缺陷複檢用掃描式電子顯微鏡），用於光罩上微小缺陷的複檢與分類。

具備穩定性高的取像技術，可依從光罩檢測系統匯入的缺陷位置資料自動取像。相較前一代機種 E5610，針對次世代 EUV 曝光用光罩做了多項改良。

SEM 空間解析度為 2nm。可選配元素分析（EDS，能量解析度 127eV）與背向散射電子分析。可處理 6025 尺寸的光罩。