最後更新:2026年10月23日光罩檢測設備

Aera 6 Mask Inspection的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・光罩檢測設備

使用 193nm 光源的第 6 代光罩檢測設備。以 1 台設備同時進行與曝光機相同成像方式(空間影像)的檢測與高解析度檢測。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Aera 6 是應用材料(Applied Materials)的第 6 代光罩檢測設備。使用 193nm 的光,以 1 台設備結合空間影像(aerial image)檢測與高解析度影像檢測;前者以與曝光機(掃描機)轉印到晶圓時相同的成像方式檢查缺陷。

搭載新型微影等級鏡頭與 2 組 CCD,提升訊雜比(S/N)與產能。支援使用反向微影等強力光學鄰近效應修正(OPC)的光罩與 EUV 光罩的檢測,以及雙重/四重圖案化用光罩的高靈敏度檢測,並將誤檢控制在低水準。

可自動分類缺陷是否會轉印到晶圓上,並運用 AI 演算法。另支援霧化(haze)早期檢出、監控 193nm・EUV 曝光造成的劣化、以 2.5nm 解析度複檢邊緣缺陷,以及以 IntenCD 繪製光罩全面的 CD 均勻性分布圖,藉此延長光罩壽命並降低成本。

主要規格

檢測方式193nm 空間影像+高解析度成像
對象先進記憶體・邏輯用光罩(含 EUV 光罩)
主要功能可轉印/不可轉印缺陷自動分類・霧化早期檢出・以 IntenCD 繪製 CD 均勻性分布圖

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

193nm 空間影像檢測
結合高解析度成像
可轉印/不可轉印缺陷自動分類
以 IntenCD 繪製 CD 均勻性分布圖

主要用途

  • 先進邏輯・記憶體用光罩的檢測
  • EUV 光罩的檢測
  • 光罩廠・晶圓廠的再檢測

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

所屬設備分類

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Aera 6