ABICS E120 是 Lasertec 的 EUV 空白光罩缺陷檢測・複檢設備，於 2017年4月發表。
以波長 13.5nm 的 EUV 光源進行光化檢測，高靈敏度檢出 Mo/Si 多層膜內部會轉印的相位缺陷。以暗場光學系統進行高靈敏度且高速的檢測，並透過高倍率複檢精確取得缺陷座標。
透過明場與暗場複檢分析缺陷。曾獲日刊工業新聞社 2017年十大新產品獎「日本力獎」，以及 Semiconductor of the Year 2018 半導體製造設備類大獎。
ABICS E120的特點與規格
Lasertec・光罩檢測設備
以 EUV 光檢出 EUV 空白光罩 Mo/Si 多層膜內部可轉印相位缺陷的檢測・複檢設備。
產品概要
主要規格
| 方式 | 光化檢測（13.5nm）・暗場光學系統 |
|---|---|
| 對象 | EUV 空白光罩（Mo/Si 多層膜） |
| 獲獎 | 2017年十大新產品獎・Semiconductor of the Year 2018 大獎 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
以 EUV 光檢測空白光罩
暗場高速檢測
高精度缺陷座標
主要用途
- EUV 空白光罩的檢測・缺陷分析
製造商與在台據點
在台據點
- Lasertec Taiwan（新竹縣竹北市）：2010 年成立，負責銷售與技術支援