ABICS E320 是 Lasertec 的 EUV 空白光罩缺陷檢測・複檢設備，於 2024年12月發表。可高靈敏度檢測次世代 EUV 空白光罩上的微小相位缺陷，並高精度量測缺陷座標。
以波長 13.5nm 的 EUV 光源進行光化檢測，高靈敏度檢出反射多層膜（Mo/Si）內部會轉印的相位缺陷。以 40 倍暗場光學系統進行高靈敏度且高速的檢測，並以 1,500 倍高倍率複檢精確量測缺陷座標。
透過明場與暗場複檢進行缺陷分類與偽缺陷判定，並輸出用於規避缺陷（缺陷緩解）的高精度座標。
ABICS E320的特點與規格
Lasertec・光罩檢測設備
以 EUV 光檢測次世代 EUV 空白光罩上的微小相位缺陷，並高精度量測缺陷座標的設備。
產品概要
主要規格
| 方式 | 光化檢測（13.5nm）・40x 暗場光學系統 |
|---|---|
| 複檢 | 1,500x 高倍率・明場／暗場 |
| 對象 | 次世代 EUV 空白光罩（Mo/Si 多層膜） |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
以 EUV 光檢測空白光罩
40x 暗場・1,500x 複檢
輸出高精度缺陷座標
主要用途
- 次世代 EUV 空白光罩的相位缺陷檢測
製造商與在台據點
在台據點
- Lasertec Taiwan（新竹縣竹北市）：2010 年成立，負責銷售與技術支援