Teron 6xx 系列是科磊（KLA）面向光罩廠的光罩（光罩／倍縮光罩）缺陷檢測設備。光罩上的缺陷會重複轉印到所有晶片上，即使只有1個缺陷也可能造成嚴重的良率下降，因此在光罩製造的各階段都少不了高靈敏度的檢測。
可檢出 EUV 用與光學曝光用圖案化光罩上的關鍵圖案缺陷與微粒。具備與設計資料比對的晶粒對資料庫（die-to-database）方式，以及晶粒之間互相比對的晶粒對晶粒（die-to-die）方式等檢測模式，可處理多種光罩膜堆疊。
也支援曲線圖案與複雜的 OPC 結構（路徑・多邊形設計），以先進的光學系統與影像處理、深度學習 AI 演算法捕捉關鍵缺陷，並符合光罩製造嚴格的潔淨度要求。系列包括 Teron 647eS2、647eS、647e、647、637。