光罩檢測設備是什麼

光罩檢測設備（Mask Inspection）是檢測微影所用光罩（photomask、reticle）缺陷與汙染的系統。以 Die-to-Die、Die-to-Database 比對演算法，高精度檢測透明缺陷、不透明缺陷、相位缺陷等多種缺陷類型。EUV 光罩的檢測需要結合反射光學系統與電子束的高靈敏度手法，光罩品質直接影響最終元件的良率與性能。

重點整理

以 Die-to-Database 比對檢測透明、不透明與相位缺陷
光罩品質直接關係最終元件的良率與性能
EUV 光罩檢測結合反射光學系統與電子束
先進製程需要高靈敏度、高產能的檢測
與光罩修補設備搭配，構成缺陷修復流程

相關用語

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