MASK DR-SEM E5620

フォトマスク上の微小欠陥をレビュー・分類する欠陥レビュー SEM。マスク検査装置の欠陥位置を自動で画像化する。

MASK DR-SEM E5620とは

E5620 は、アドバンテストの MASK DR-SEM（欠陥レビュー用の走査電子顕微鏡）です。フォトマスク上の微小な欠陥のレビューと分類を行います。

安定性の高い画像取得技術を持ち、マスク検査システムから取り込んだ欠陥の位置データをもとに、自動で画像化します。前の機種 E5610 に比べ、次世代の EUV 露光用マスクに向けて多くの改善が加えられています。

SEM の空間分解能は 2nm です。オプションで元素分析（EDS、エネルギー分解能 127eV）や後方散乱電子の分析も行えます。6025 サイズのフォトマスクを扱います。

主な特長

•空間分解能 2nm
•マスク検査装置と連携した自動画像化
•EDS・後方散乱電子分析（オプション）

主な仕様

対象	6025 サイズのフォトマスク
SEM 空間分解能	2nm
オプション	元素分析（EDS・127eV）・後方散乱電子分析

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	KLATeron™ 6xx シリーズ	Applied MaterialsAera™ 6 Mask Inspection	アドバンテストMASK DR-SEM E5620	レーザーテックACTIS A300 シリーズ	レーザーテックACTIS A150	レーザーテックACTIS A200HiT シリーズ	レーザーテックABICS E320	レーザーテックABICS E120	レーザーテックMATRICS X9ULTRA シリーズ	レーザーテックMATRICS X8ULTRA シリーズ	レーザーテックMATRICS X810EX シリーズ	レーザーテックMATRICS X712 シリーズ	レーザーテックMAGICS M9750／M9751	レーザーテックMAGICS M9650／M9651	レーザーテックMAGICS M6750／M6751	レーザーテックPELMIS シリーズ	レーザーテックBASIC シリーズ	レーザーテックMZ100
対象	—	先端メモリ・ロジック用マスク（EUV マスクを含む）	6025 サイズのフォトマスク	High-NA 用・現行 NA 用の EUV マスク（ペリクル付き対応）	EUV マスク（ペリクル付き対応）	—	次世代 EUV マスクブランクス（Mo/Si 多層膜）	EUV マスクブランクス（Mo/Si 多層膜）	ペリクル非装着の EUV マスク	ペリクル非装着 EUV マスク・DUV マスク	—	成熟プロセスノードのマスク	EUV マスクブランクス・サブストレート	EUV マスクブランクス・光マスクブランクス・サブストレート	レジスト塗布済みブランクス・Cr／MoSi／ハーフトーン膜	ペリクル付き EUV マスク（ペリクル面・パターン面・外周部）	EUV マスク（6 インチ）	EUV・DUV フォトマスク
方式	—	—	—	アクティニック検査（EUV 光・URASHIMA 光源）	アクティニック検査（EUV 光 13.5nm）	アクティニック検査（EUV 光）	アクティニック検査（13.5nm）・40x 暗視野光学系	アクティニック検査（13.5nm）・暗視野光学系	—	—	—	—	MAGICS の基幹技術＋刷新した検査光学系・高速検査回路	—	コンフォーカル光学系・63 本のマルチビームスキャン	—	—	コンフォーカル光学系
発表	—	—	—	2023年11月	—	2025年10月	—	—	2022年4月	—	—	2026年3月	2025年12月	—	—	2024年12月	—	—
機能	—	—	—	—	—	—	—	—	—	マスク to マスク比較（MtM）・OHT 連動の全自動検査	—	—	—	—	M6751 は描画・ベーク後の潜像パターン上の異物検査に対応	表裏の自動判別・ダイ比較・マスク to マスク比較	裏面の異物検出・異物の高さ測定・クリーニング	—
受賞	—	—	—	—	2019年十大新製品賞・半導体・オブ・ザ・イヤー2020 グランプリ	—	—	2017年十大新製品賞・半導体・オブ・ザ・イヤー2018 グランプリ	—	—	—	—	—	半導体・オブ・ザ・イヤー2019 グランプリ	—	—	—	—
光源	—	—	—	—	—	—	—	—	ハイパワー 193nm レーザー	—	213nm QCW レーザー（400mW 超・従来比 2 倍）	—	—	—	—	—	—	—

1機種だけが掲載している項目（17件）

検査対象	EUV・光露光用パターン付きレチクル	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
検出方式	ダイ・トゥ・データベース／ダイ・トゥ・ダイ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
シリーズ構成	Teron 647eS2／647eS／647e／647／637	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
主要用途	マスクショップのレチクル品質認定・出荷検査	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
検査方式	—	193nm エアリアルイメージ＋高解像度イメージング	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
主な機能	—	転写／非転写の自動欠陥分類・ヘイズ早期検出・IntenCD による CD 均一性マップ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
SEM 空間分解能	—	—	2nm	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
オプション	—	—	元素分析（EDS・127eV）・後方散乱電子分析	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
検査速度	—	—	—	—	—	ACTIS A150 の 3 倍	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
レビュー	—	—	—	—	—	—	1,500x 高倍率・明視野／暗視野	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
光学	—	—	—	—	—	—	—	—	—	画素 45nm・213nm QCW レーザー（400mW 超）・2 種類の偏光照明	—	—	—	—	—	—	—	—
スキャン時間	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	38 分／100 × 100mm	—	—	—	—	—	—	—
対応マスク	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	Cr・MoSi・OMOG（6 インチ）	—	—	—	—	—	—	—
検査モード	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	DDB（Die-to-Database）・DD（Die-to-Die）・SD（Single Die）	—	—	—	—	—	—
カセット	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	多段カセット・RSP・MRP・Dual Pod	—	—	—	—
装置サイズ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	1,550 × 2,955 × 2,400 mm	—
検査範囲	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	マスク中央 146 × 146mm 以外の全領域（サイド面・ベベル）