LITHOSCALE XT 是 EV Group（EVG）的無光罩曝光（MLE）微影系統。不使用光罩，直接由數位資料曝光圖案，因此不需要製作光罩，也能立即因應設計變更。
具備可單獨或同時使用約 375nm 與 405nm 2 個波段的 UV 雷射二極體，可曝光多種材料。解析度為低於 2µm 的 L/S，可處理最大 300mm 的晶圓與 300mm 見方的面板。產能最高為舊款 LITHOSCALE 的 5 倍。
可對晶圓全面進行無接縫曝光，不受曝光場與晶粒尺寸限制。支援厚度從低於 1µm 到超過 100µm 的光阻、化學增幅型光阻、正型・負型光阻、絕緣膜，以及 RGB・IR 光阻。用於 AI・HPC 用扇出型 WLP、面板級封裝、多晶粒圖案化、MEMS、影像感測器與晶粒追溯。