LITHOSCALE® XT
マスクレス露光システム LITHOSCALE の量産機。ダイ・ウェーハ単位でバイアスや補正を即時に反映でき、レチクルのつなぎ合わせが要らない。
LITHOSCALE XTとは
LITHOSCALE XT は、EV Group（EVG）のマスクレス露光（MLE）リソグラフィシステムです。フォトマスクを使わずにデジタルデータから直接パターンを露光するため、マスクの製作が要らず、設計変更にもすぐ対応できます。
約 375nm と 405nm の 2 つの波長帯を、単独または同時に使える UV レーザーダイオードを持ち、多様な材料を露光できます。解像度は 2µm 未満の L/S で、最大 300mm のウェーハと 300mm 角のパネルを扱います。スループットは従来の LITHOSCALE より最大 5 倍高くなりました。
ウェーハ全面をつなぎ目なしで露光でき、露光フィールドやダイサイズの制約がありません。1µm 未満から 100µm を超える厚さのレジスト、化学増幅型レジスト、ポジ・ネガ、絶縁膜、RGB・IR レジストに対応します。AI・HPC 向けのファンアウト WLP、パネルレベルパッケージ、マルチダイのパターニング、MEMS、イメージセンサー、ダイのトレーサビリティに使われます。
主な特長
- •マスクレス露光、375nm／405nm の 2 波長
- •2µm 未満の L/S
- •300mm ウェーハ・300mm 角パネル
- •従来機比最大 5 倍のスループット、つなぎなし全面露光
主な仕様
| 対応ウェハ径 | 300 mm ウェーハ・300 mm 角基板 |
|---|---|
| 露光方式 | マスクレス（デジタル）露光 |
| 特徴 | 従来の LITHOSCALE 比で最大 5 倍のスループット |
| 主要用途 | AI・HPC 向け FOWLP・パネルレベルパッケージ |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
露光（RDL形成）：2機種の比較
| 項目 | Suss MicroTecDSC300 Gen3 | EV GroupLITHOSCALE® XT |
|---|---|---|
| 対応ウェハ径 | 300 mm（200 mm オプション） | 300 mm ウェーハ・300 mm 角基板 |
| 露光方式 | 1X 投影スキャン（Wynne-Dyson 光学系） | マスクレス（デジタル）露光 |
| 主要用途 | Cuピラーバンプ・WLCSP・RDL 形成 | AI・HPC 向け FOWLP・パネルレベルパッケージ |
1機種だけが掲載している項目（3件）
| 解像度 | 2 μm | — |
|---|---|---|
| 重ね合わせ精度 | 1.0 μm 以下 | — |
| 特徴 | — | 従来の LITHOSCALE 比で最大 5 倍のスループット |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •AI・HPC 向けファンアウト WLP・パネルレベルパッケージ
- •マルチダイのパターニング、ダイのトレーサビリティ
掲載カテゴリ
LITHOSCALE XTは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
オーストリアを拠点とするウェーハボンディングおよびリソグラフィ装置の世界的リーダー。先端パッケージングおよびMEMS製造に強み。