最後更新:2026年10月23日晶圓級封裝

Topaz PVD的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・晶圓級封裝

支援最大 600 × 600mm 基板的面板級封裝(PLP)用 PVD。在基板溫度未滿 120℃ 下成膜。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Topaz PVD 是應用材料(Applied Materials)用於面板級封裝(PLP)的 PVD 設備。可在最大 600mm × 600mm 的基板上成膜。

受低成本・高性能電子產品需求的推動,封裝正從晶圓級(WLP)轉向面板級(PLP)。PLP 正規化後的設備成本不到晶圓形式的一半。扇出型 WLP、液晶與印刷電路板的技術相互融合,使扇出技術變得較為平價。

除了 PLP 之外,也可用於玻璃・有機中介層與內埋元件基板。以獨特的模組配置,實現低接觸電阻、所需最低值 2 倍的附著強度、低應力、未滿 120℃ 的低基板溫度,以及能良好附著於蝕刻孔側壁的共形(conformal)晶種層。

主要規格

適用基板最大 600 × 600 mm
基板溫度未滿 120℃
主要用途PLP・玻璃/有機中介層・內埋元件基板

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

最大 600 × 600mm
基板溫度未滿 120℃
附著強度為所需值的 2 倍

主要用途

  • 面板級封裝
  • 玻璃・有機中介層

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

所屬設備分類

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Topaz PVD