最後更新:2026年10月23日晶圓級封裝

Charger UBM PVD的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・晶圓級封裝

用於 UBM・RDL・CMOS 影像感測器的封裝用 PVD。採線性架構,處理片數為其他廠商機台的 2 倍以上。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Charger UBM PVD 是應用材料(Applied Materials)的封裝用 PVD 設備。專為 UBM(凸塊下金屬層)、RDL(重布線層)及 CMOS 影像感測器的用途而設計。

採直線排列的線性架構,處理片數為其他廠商設備的 2 倍以上。搭配 Volaris 預清洗技術,抑制有機膜釋氣造成的汙染,增加了到保養前可處理的片數。

為滿足 UBM・RDL 所用 Ti、TiW、Cu、NiV 等金屬的膜厚均勻性要求,改良了磁控管與腔體。可從小型的 3 腔體配置,以短暫的停機時間擴充為量產用的 5 腔體配置。

主要規格

方式PVD(線性架構)
適用金屬Ti・TiW・Cu・NiV 等
配置可從 3 腔體擴充至 5 腔體・Volaris 預清洗

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

處理片數為其他廠商機台的 2 倍以上
Volaris 預清洗
可擴充至 3~5 腔體

主要用途

  • UBM 的形成
  • RDL 的形成
  • CMOS 影像感測器

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

所屬設備分類

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Charger UBM PVD